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產(chǎn)品中心

小型等離子清洗機(jī) 中大型等離子清洗機(jī) 等離子刻蝕機(jī) 等離子沉積鍍膜大氣等離子清洗機(jī) 電暈機(jī)

合作案例

清華大學(xué)采購(gòu)PLUTO-T等離子清洗機(jī) 清華大學(xué)調(diào)研了眾多等離子表面處理設(shè)備，最終選擇了上海沛沅生產(chǎn)的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)。根據(jù)客戶的技術(shù)要求，提供了可以滿足老師所有技術(shù)參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)，以下為該設(shè)備的安裝調(diào)試圖。
上海交大采購(gòu)PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備 2020年12月，上海交通大學(xué)采購(gòu)我司PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備。該設(shè)備采用13.56MHz射頻，涂覆面積為150*150mm，具備良好的穩(wěn)定性與可重復(fù)性。
電子科技大學(xué)采用Pluto-MD等離子去膠機(jī)進(jìn)行晶圓去膠電子科技大學(xué)已采購(gòu)多臺(tái)等離子設(shè)備，包括PLUTO-T等離子清洗機(jī)，PLUTO-MD等離子去膠機(jī)等，用戶反饋良好。主要涉及的應(yīng)用有：晶圓光刻膠的去除、電子半導(dǎo)體樣品表面有機(jī)物的去除、多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的表面處理等等。

新聞中心

企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

: 等離子去膠機(jī)的低溫特性可適用于熱敏感材料使用

等離子去膠機(jī)的核心原理是利用高頻電磁場(chǎng)激發(fā)氣體分子，形成由離子、電子和活性自由基組成的等離子體。這種等離子體具有雙重作用：一是物理轟擊，高速離子撞擊膠層表面，使...
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技術(shù)文章| Technical articles

: 臺(tái)式真空等離子清洗機(jī)：高效環(huán)保的表面處理利器與操作指南

在精密制造與科研領(lǐng)域，表面處理工藝的精度與環(huán)保性直接影響產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率。臺(tái)式真空等離子清洗機(jī)憑借其技術(shù)優(yōu)勢(shì)，成為眾多行業(yè)不可少的工具。本文將從設(shè)備優(yōu)勢(shì)與使用要點(diǎn)兩方面展開，為用戶提供全面指導(dǎo)。一、核心優(yōu)勢(shì)：多維度突破傳統(tǒng)清洗局限納米級(jí)清潔能力該設(shè)備通過高頻電場(chǎng)激發(fā)氣體形成等離子體，其活性粒子可深入材料表面微孔與凹陷區(qū)域，精準(zhǔn)剝離分子級(jí)污染物(如油脂、氧化物)，清潔精度達(dá)0.1納米。相較于傳統(tǒng)超聲波清洗的微米級(jí)效果，等離子清洗為后續(xù)粘接、涂層等工藝提供了潔凈的表面基礎(chǔ)。例如...
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應(yīng)用案例

01 等離子清洗
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。

圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
02 等離子去膠
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。

圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
03 等離子活化改性
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；

圖為PLUTO-M對(duì)線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
04 等離子刻蝕
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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